原位电镜小组
  • 李许静

    邮箱:xjli(AT)ibp.ac.cn
    座机:010-64888419

个人简介

  2011年7月,毕业于河北科技大学理学院,获理学学士学位;

  2016年6月,毕业于北京科技大学材料学院,获工学博士学位,博士期间主要研究方向为界面状态对薄膜磁性和自旋相关输运性能的影响;

  2018年11月,中科院物理所表面物理国家重点实验室,博士后出站,博士后期间主要研究方向为磁性薄膜缺陷的构建,电子显微学表征及理论计算;

  2018年12月至今,就职于金沙集团1862cc生物物理所蛋白质科学研究平台生物成像中心。

  主要研究方向

  冷冻电子显微学

  代表性论文及论著

  Xujing Li, et al., “Enhanced planar hall sensitivity with better thermal stability by introducing interfacial modifi cation of Au spacer”, J Mag. Mag. Mater. 2015, 381: 386

  Xujing Li, et al., “Enhanced post-annealing stability of perpendicular Ta/CoFeB/Mg/MgO multilayers by inhibiting Ta diffusion”, Appl. Surf. Sci. 2016, 365:275

  Xujing Li, et al., “High post-annealing stability for perpendicular [Co/Ni]n multilayers by preventing the interfacial diffusion”, J. Phys. D: Appl. Phys. 2016,49:185004

联系我们

  • 地址:北京市朝阳区大屯路15号
  • 电话:010-64888419